ソリューション

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論文リスト

2011年

著者 土肥俊郎、大坪正徳、黒河周平、大西修、畝田道雄、宮地計二、清家善之、丸山健治、小谷卓司、大橋建
題名 3Dスタックデバイスの製造工程におけるTSV内レジスト成膜に関する研究―第2報
掲載記事 TSVパターンのナノインプリント転写による計測と応用−, 2011年度精密工学会秋季大会学術講演会, P155-156 (2011年9月)
著者 清家善之、小林義典、宮地計二、島井太、丸山健治、佐藤晶彦、土肥俊郎、黒河周平、大西修、大坪正徳
題名 3Dスタックデバイスの製造工程におけるTSV内レジスト成膜に関する研究−第1報 新しいTSVの成膜方法の提案とその装置化について〜
掲載記事 2011年度精密工学会秋季大会学術講演会, P153-154 (2011月9月)

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2010年

著者 H. Lee , Y. Zhuang, M. Sugiyama, Y. Seike, M. Takaoka, K. Miyachi, T. Nishiguchi, H. Kojima, A. Philipossian
題名 Pad flattening ratio, coefficient of friction and removal rate analysis during silicon dioxide chemical mechanical planarization
掲載記事 Journal of Thin Solid Films, 518 (2010) 1994-2000. (2010年2月)
著者 Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Tatsuo Shibata, Yoshinori Kobayashi, Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi
題名 Silicon Wafer Cleaning Using New Liquid Aerosol with Controlled Droplets Velocity and Size by Rotary Atomizer Method
掲載記事 Japanese Journal of Applied Physics Vol. 49, 066701. (2010年6月)
著者 宮地計二, 黒河周平, 川島早由里, 明永裕樹, 清家善之, 小林義典, 大西修, 土肥俊郎
題名 高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究−ノズル形状の違いが洗浄力に与える影響−
掲載記事 精密工学会誌, 第76巻 第8号 P907-911. (2010年8月)
著者 宮地計二, 黒河周平, 清家善之,土肥俊郎, 泉川晋一, 赤間太郎, 大西修
題名 CMPにおける高圧マイクロジェットによる不織布パッドの非破壊コンディショニング
掲載記事 精密工学会誌, 第76巻 第9号P1076-1081. (2010年9月)
著者 Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Syuhei Kurokawa, Osamu ohnishi and Toshiro Doi
題名 Semiconductor Devices Cleaning with Liquid Aerosol Nozzle using Rotary Atomizer Method
掲載記事 Advanced Metallization Conference 2010, P156-157. (2010年10月)
著者 宮地計二, 清家善之
題名 液体霧化技術のディスプレイ製造プロセスへの応用
掲載記事 九州大学OPERA研究会セミナー, (2010年12月)

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2009年

著者 清家善之, 宮地計二, 小林義典, 柴田達夫, 土肥俊郎, 黒河周平
題名 洗浄用回転霧化式二流体ノズルの開発
掲載記事 第56回応用物理学関連連合講演会講演予稿集 No2, P827. (2009年3月)
著者 宮地計二, 黒河周平, 清家善之, 山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎
題名 スプレー式洗浄の粒子解析と洗浄力に関する考察
−二流体スプレーと高圧マイクロジェットの洗浄力比較−
掲載記事 精密工学会誌, 第75巻 第4号 P536-541. (2009年4月)
著者 清家善之, 宮地計二, 小林義典, 柴田達夫, 土肥俊郎, 黒河周平
題名 CMPクリーニング向け回転霧化式ニ流体ノズルの開発
掲載記事 2009年度精密工学会春季学術講演会, p297. (2009年9月)
著者 清家善之
題名 シリコンウェハ製造工程に用いられる高圧マイクロジェット洗浄技術
掲載記事 砥粒加工学会誌, 第53巻 第9号, P540-543. (2009年9月)
著者 栗塚和昌・土肥俊郎・黒河周平・松川洋二(九州大)・小林義典・宮地計二・山田隆行(旭サナック)・佐藤行一・土田良彦・山田 武(住友化学)
題名 脱真空スプレー/CMP融合プロセス技術による有機EL膜の超精密製膜技術(第2報)
掲載記事 2009年度精密工学会春季学術講演会, p308. (2009年9月)
著者 Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Tatsuo Shibata, Yoshinori Kobayashi, Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi
題名 Development of a Revolution Atomizing Two Fluid Cleaning Nozzle (RAC nozzle) for Post-CMP Cleaning
掲載記事 International Conference on Planarization/CMP Technology 2009, p1961-1965. (2009年10月)
著者 H. Lee , Y. Zhuang, M. Sugiyama, Y. Seike, M. Takaoka, K. Miyachi,
T. Nishiguchi,H. Kojima, A. Philipossian
題名 Pad flattening ratio, coefficient of friction and removal rate analysis during silicon dioxide chemical mechanical planarization
掲載記事 Journal of Thin Soild Films, (2009)

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2008年

著者 清家善之
題名 最新CMP技術と周辺部材
掲載記事 技術情報協会, p214. (2008年2月)
著者 宮地計二, 清家善之, 小林義典, 山本浩之, 土肥俊郎, 黒河周平
題名 スプレー式洗浄の粒子解析と洗浄力に関する考察
掲載記事 2008年度精密工学会春季学術講演会, p203. (2008年3月)
著者 清家善之
題名 接液部非金属化を実現した高圧マイクロジェット精密洗浄装置の開発
掲載記事 日本機械学会誌, 第111巻 第1074号, p446. (2008年5月)
著者 宮地計二, 黒河周平, 清家善之, 山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎
題名 高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究 −粒子挙動解析と洗浄実験による考察−
掲載記事 精密工学会誌, 74, 10(2008), P1074-1079.
著者 Syuhei Kurokawa, Keiji Miyachi, Yoshiyuki Seike, Shinichi Izumikawa, Shinichi Haba, Toshiro Doi
題名 Pad Conditioning Using a High Pressure Micro Jet (HPMJ) to Improve Life Span of Unwoven Fabric Pads in CMP for Silicon Wafers
掲載記事 International Conference on Planarization/CMP Technology (2008),p403-408.
著者 Keiji Miyachi, Taro Akama, Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi,
Kimio Nakayama, Yoshiyuki Seike, Yoji Matukawa, Yoji Umezaki
題名 CMP characteristics of silicon wafer with a micro-fiber pad, and pad conditioning with high pressure micro jet (HPMJ)
掲載記事 The 5th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials, (2008), P93-97.
著者 清家善之
題名 帯電の測定方法と静電気障害対策
掲載記事 サイエンス&テクノロジー社, 第13章 (2008年発刊)

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2007年

著者 Keiji Miyachi, Yoshiyuki Seike, Shinichi Haba, Syuhei Kurokawa,Toshiro Doi
題名 Impact of a High Pressure Micro Jet (HPMJ) on the conditioning and cleaning of unwoven fabric polyester pads in silicon polishing
掲載記事 International Conference on Planarization/CMP Technology (2007),p403-408.
著者 清木彰彦, 土肥俊郎, 清家善之, 宮地計二, 羽場真一, 栗原晶彦
題名 SiウェハCMP用不織布パッドの高圧マイクロジェット(HPMJ)にコンディショニング/
クリーニング効果
掲載記事 2007年度精密工学会春季学術講演会, p203. (2007年3月)
著者 清家善之, 甘利昌彦, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 超高圧マイクロジェットによる半導体CMPパッドの洗浄・コンディショニング技術
掲載記事 砥粒加工学会誌, 第51巻 第3号, P134-137. (2007年3月発刊)

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2006年

著者 Yoshiyuki Seike, Hyo-sang Lee, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi,
Masahiko Amari. Toshiro Doi, Ara Philipossian
題名 Development of a Pad Conditioning Process for Inter-Layer Dielectric Chemical Mechanical Planarization using High-Pressure Micro Jet Technology
掲載記事 Journal of The Electrochemical Society 153, (2006),G223.
著者 清家善之
題名 高圧マイクロジェット精密洗浄(HPMJ)を利用したEILD加工後洗浄と追加工の可能性
掲載記事 第44回EILD研削セミナー, EILD研削研究会, P144. (2006年3月)
著者 清家善之, 林偉民, 大森整, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 水粒子を用いた高圧マイクロジェットによるEILD研削の後洗浄に関する研究
掲載記事 2006年度精密工学会春季学術講演会, p416. (2006年3月)
著者 清家善之
題名 CMP技術体系
掲載記事 グローバルネット, p510-513. (2006年6月発刊)
著者 清家善之、李考相、宮地計二、土肥俊郎、アラ・フィリポシアン
題名 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパットコンディショニング法の開発
-酸化膜ILDの連続CMPにおける研磨特性とパット表面状態の評価-
掲載記事 精密工学会誌, 72,7(2006), P924-928.
著者 清家善之、李考相、高岡峰雄、宮地計二、土肥俊郎、アラ・フィリポシアン
題名 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパットコンディショニング法の開発
-蛍光スラリーを利用したパット溝内のスラリー残渣の洗浄性確認-
掲載記事 砥粒加工学会誌, 50, 8(2006), 465-470.
著者 山本浩之, 清家善之, 小林義典, 後藤昌代, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 Post-CMPクリーニングにおける高圧マイクロジェットの可能性
掲載記事 2006年度精密工学会秋季学術講演会, p513. (2006年9月)
著者 清木彰彦, 土肥俊郎, 窪光慈, 清家善之, 宮地計二, 竹内直樹
題名 高圧マイクロジェット洗浄における静電気特性に関する基礎検討
掲載記事 2006年度精密工学会秋季学術講演会, p515. (2006年9月)
著者 清家善之
題名 高圧マイクロジェットを用いたパッドコンディショニング
掲載記事 図解 砥粒加工技術のすべて, 工業調査会, p192. (2006年9月発行に掲載)
著者 清木彰彦, 土肥俊郎, 清家善之, 宮地計二, 木下正治, 荻窪光滋, 竹内直樹,関谷友香里
題名 超高圧マイクロジェット(HPMJ)によるパッドのコンディショニング/クリーニング効果
掲載記事 2006年精密工学会東北支部講演会. (2006年12月)
著者 竹内直樹, 荻窪光慈, 清木彰彦, 土肥俊郎, 清家善之, 宮地計二
題名 超高圧マイクロジェット(HPMJ)装置における静電気発生メカニズムとその防止対策の検討
掲載記事 2006年精密工学会東北支部講演会. (2006年12月)
著者 Hyo-sang Lee. Yoshiyuki Seike, Zhonglin Li, Yun Zhuang, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Ara Philipossian
題名 Characterization of Slurry Residues in Pad Grooves for Diamond Disc and High-Pressure-Micro-Jet Pad Conditioning Process
掲載記事 Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 45 , (2006),L1325-1327.
著者 Darren DeNardis, Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi,Ara Philipossian
題名 Investigation of High-Pressure Micro Jet Technology as an Alternative to Diamond Disc Conditioning ILD CMP
掲載記事 Wear, 206, (2006),1224-1231.

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2005年

著者 清家善之, 川島早由里, 宮地計二, 土肥俊郎, アラ・フィリポシアン
題名 新しい高圧マイクロジェット洗浄技術の提案とその装置化
−ポリッシングパッドのコンディショニングへの適用−
掲載記事 精密工学会誌, 第71,1(2005), P110-114.
著者 清家善之
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄装置(HPMJ)における洗浄と電子デバイス製造プロセスにおける用途例
掲載記事 将来加工技術第136委員会 第6回研究会, 日本学術振興会, P1. (2005年2月)
著者 Yoshiyuki Seike, Darren DeNardis, Masano Sugiyama, Keiji Miyachi, Toshiro Doi, Ara Philipossian
題名 Development and Analysis of a High-Pressure Micro Jet Pad Conditioning System for Interlayer Dielectric Chemical Mechanical Planarization
掲載記事 Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 44, (2005),1225-1231.
著者 清家善之, 李考相, 高岡峰雄, 宮地計二, 土肥俊郎, A. Philiossian
題名 高圧マイクロジェット精密洗浄によるパッドコンディショニング技術
−UV発光スラリーを利用したパッド溝のスラリー残渣の確認−
掲載記事 2005年度精密工学会秋季学術講演会, p217 (2005年9月)
著者 清木彰彦, 清家善之, 宮地計二, 土肥俊郎, 船越考雄, 上川大地
題名 高圧マイクロジェット洗浄における静電気特性に関する基礎検討
掲載記事 2005年精密工学会東北支部講演会. (2005年12月)
著者 Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Hyo-sang Lee, Ara Philipossian, Toshiro Doi
題名 Development of a Pad Conditioning Method for ILD CMP using a High Pressure Micro Jet System
掲載記事 Proceedings of The 2st Pac-Rim International Conference on Planarization CMP and its Application Technology, (2005),p327-333.
著者 Hyo-sang Lee, Darren DeNardis, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi
題名 Termal, Tribological, and Removal Rate Characteristics of Pad Conditioning in Copper CMP
掲載記事 Proceedings of The 2st Pac-Rim International Conference on Planarization CMP and its ApplicationTechnology, (2005), p308-314.

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2004年

著者 Hyo-sang Lee, Masano Sugiyama, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike,
Keiji Miyachi, Mineo Takaoka
題名 CMP Pad Conditioning by Super High-Pressure Micro Jet System
掲載記事 ERC 8th Annual retreat semi-annual IAB meeting. (2004年2月)
著者 清家善之, 宮地計二, Darren Denardis, Masano Sugimaya, Ara Philipossian,肥俊郎
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄によるパッドコンディショニング技術
掲載記事 2004年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集, P951 (2004年3月)
著者 Darren Denardis, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi
題名 Evaluation of Super High-Pressure Micro Jet Cleaning System Technology as an Alternative to Conventional Diamond Conditioning
掲載記事 Material research society spring meeting 2004. (2004年4月)
著者 Hyo-sang Lee, Masano Sugiyama, Toshiro Doi, Takashi Nishiguchi,
Hiroyuki Kojima, Y.Seike, M.Takaoka, K.Miyachi
題名 Relationship Between Removal Rate, Coefficient of Friction & Pad Flattening Ratio in ILD CMP
掲載記事 The Planarization & CMP Techinical Meeting 2004 in San Francisco. (2004年7月)
著者 Hyo-sang Lee, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Toshiro Doi
題名 Pad Conditioning Technology by HPMJ as a Combination with Conventional Diamond Conditioning
掲載記事 ERC Annual retreat semi-annual IAB meeting. (2004年8月)
著者 清家善之, 高岡峰雄, 宮地計二, Hyo-sang Lee, 杉山昌乃, Ara Philipossian,土肥俊郎
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄におけるパッドコンディショニング技術
掲載記事 2004年精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集, P489 (2004年9月)
著者 Hyo-sang Lee, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi
題名 Evaluation of High Pressure Micro Jet Technology as an Alternative Pad Conditioning Method for Silicon Dioxide and Copper Chemical Mechanical Planarization
掲載記事 AIChe Annual Meeting and Fall Showcase. (2004年11月)
著者 Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Hyo-sang Lee, Toshiro Doi, Ara Pilipossian
題名 Development of a high pressure micro Jet (HPMJ) Pad Conditioning System for Interlayer Dielectric Chemical Mechanical Planarization Process,
掲載記事 Proceedings of The 1st Pac-Rim International Conference on Planarization CMP and its Application Technology, (2004), p199-205.

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2003年

著者 清家善之, 川島早由里, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 研磨パッドドレッシングおよびPost-CMPクリーニングにおける超高圧マイクロジェット精密洗浄装置の開発
掲載記事 2003年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集P252. (2003年3月)
著者 清家善之
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄装置−HPMJシリーズ−
掲載記事 日本工業出版「クリーンテクノロジー」第12巻第4号P84-86. (2003年9月発行に掲載) 2002年4月
著者 Yoshiyuki Seike
題名 A super high pressure micro jet system for pad dressing and post-CMP cleaning in CMP process
掲載記事 Second UA-JSPE CMP Workshop (2003年7月)
著者 Darren Denardis, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike
題名 Feasibility study for an alternative to convenational diamond conditioning super high-pressure micro jet cleaning system
掲載記事 Second UA-JSPE CMP Workshop. (2003年7月)
著者 Darren Denardis, Ara Philipossian, Yoshiyuki Seike, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi
題名 Evaluation of super high-pressure micro jet technology as an alternative to conventional diamond conditioning
掲載記事 ERC 7thAnnual retreat semi-annual IAB meeting. (2003年8月)
著者 清家善之
題名 旭サナックの超高圧マイクロジェット精密洗浄装置
掲載記事 Electronic Journal 2003 9月号, (2003年9月発行に掲載)
著者 清家善之, 樋口卓也, 川島早由里, 村田正美, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄装置の静電気測定に関する研究(第1報)
掲載記事 2003年精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集P278 (2003年10月)
著者 清家善之, 宮地計二,
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄装置の静電気測定と対策
掲載記事 2003年度静電気障害防止技術シンポジウム−フラットパネルディスプレイ関係−(2003年11月)

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2002年

著者 宮地計二, 清家善之
題名 超高圧マイクロジェット精密洗浄装置「HPMJシリーズ」
掲載記事 工業調査会発行 電子材料6月号別冊「液晶ディスプレイ技術 2002年」P131-136. (2002年6月発行に掲載)
著者 宮地計二, 清家善之
題名 超高圧マイクロジェットによる精密洗浄システムとオプトエレクトロニクス部品プロセスへの適用
掲載記事 光技術コンタクト2002年11月号, P28-36. (2002年11月発行に掲載)
著者 Yoshiyuki Seike, Sayuri Kawashima, Keiji Miyachi, Toshiroh Karaki Doy
題名 A Development of Super High-Pressure Micro Jet System for Pad Dressing and Post - CMP Cleaning in CMP Process
掲載記事 (2002) VLSI Multilevel Interconnection conference, p411-414.

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2000年

著者 清家善之
題名 超高圧マイクロジェットによるクリーニング技術
掲載記事 精密工学会「プラナリゼーション加工/CMP応用技術専門委員会」Planarization;CMP&Its application, Vol2 P102. (2000年6月)
著者 清家善之, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 超高圧マイクロジェットを用いたパッドドレッシングに関する研究
掲載記事 2000年精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集P4. (2000年10月)
著者 清家善之
題名 ウエットエッチング装置AF2800S/5400S
掲載記事 2001 FPDテクノロジー大全P281-P282. (2000年10月発行に掲載)
著者 Yoshiyuki Seike, Sayuri Kawashima, Shigeru Taniguchi, Ryosuke Usui, Takaho Saito, Keiji Miyachi, Toshiroh Karaki Doy
題名 A New Pad Dressing Technique using Super High-Pressure Micro Jet in CMP
掲載記事 Advances in Abrasive Technology V (2000), P197-204, The Society of Grinding Engineers.

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1999年

著者 清家善之, 土肥俊郎
題名 超高圧ジェット精密洗浄技術のポリッシング工程への適応
掲載記事 1999年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集P144. (1999年3月)

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1998年

著者 清家善之, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 新しい超高圧ジェットを用いたパッドドレッシング技術
掲載記事 砥粒加工学会誌(技術レポート)第39号 第1号P39-40. (1998年1月発行に掲載)
著者 清家善之, 土肥俊郎
題名 超高圧ジェットを用いたパッドドレッシングに関する研究 
−パッドドレッシングの効果について−
掲載記事 1998年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集, P50. (1998年8月)

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1997年

著者 清家善之, 宮地計二, 土肥俊郎
題名 新しい超高圧ジェットを用いたパッドドレッシング技術
掲載記事 1997年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集, P193 (1997年10月)
著者 清家善之, 宮地計二
題名 超高圧ジェット精密洗浄技術のLCDカラーフィルタおよび半導体製造工程への適用
掲載記事 最先端フォーラム'97名古屋, P9. (1997年11月)

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